PARSTAT 4000A 電化學(xué)工作站是在PARSTAT4000電化學(xué)工作站上升級(jí)研發(fā)的新一款“優(yōu)先級(jí)"(Reference Grade)電化學(xué)工作站。它集“普林斯頓應(yīng)用研究"50余年品牌歷史和專(zhuān)業(yè)制造DC電化學(xué)測(cè)量?jī)x器,“輸力強(qiáng)應(yīng)用研究"60年AC阻抗測(cè)試儀器研發(fā)及制造的的經(jīng)驗(yàn)研發(fā)制造,是集合兩個(gè)品牌的研發(fā)制造技術(shù)而生產(chǎn)的新一款研究級(jí)電化學(xué)工作站系統(tǒng)。
PARSTAT 4000A 電化學(xué)工作站可以應(yīng)用于以下研究領(lǐng)域,研究電化學(xué),腐蝕和涂層,電池/電容器,燃料電池/太陽(yáng)能電池,傳感器,生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用和納米科技。提供更高的測(cè)試速度,多功能性和精度,新的PARSTAT 4000A是一個(gè)建立在客戶應(yīng)用建議基礎(chǔ)上研發(fā)設(shè)計(jì)的例子。
+/- 48V高槽壓
+/- 4A標(biāo)配大電流輸出(*大可擴(kuò)展至+/- 20A)
40pA*小電流量程,分辨率達(dá)1.2fA
10uHz ~ 10MHz阻抗測(cè)試
1uS高速采樣,儀器內(nèi)置4M緩存,以防數(shù)據(jù)丟失
小電流選件,可達(dá)80fA*小量程,2.5aA*小電流分辨率
帶有標(biāo)準(zhǔn)接地浮置功能
功率放大器 | 輸出電壓 | ±48V | 輸出電流 | ±4A (標(biāo)配) ±20A (選配) | 電位控制 (恒電位模式) | 施加電位范圍 | ±10V(+/-48V可擴(kuò)展) | 電流控制 (恒電流模式) | 施加電流范圍 | ±4A (標(biāo)配), ±20A (選配) | 電位測(cè)量 | 電位測(cè)量范圍 | ±10V ( +/-100V,可通過(guò)增壓器選件擴(kuò)展) | 阻抗模塊 (EIS) 選件 | 模式 | 電位控制/電流控制 | 掃描方式 | 線性 or 對(duì)數(shù) | iR 補(bǔ)償 | 正反饋 | 有 | 動(dòng)態(tài) iR 補(bǔ)償 | 有 | 接口 (標(biāo)配) | 數(shù)字輸入/數(shù)字輸出 | 5 TTL logic 輸出, 2 TTL logic 輸入 | 計(jì)算機(jī) / 軟件 | 通訊接口 | USB模式 | 操作系統(tǒng) | Windows XP, or Windows 7, 8, 10 | PC 配置 (至少需求) | Core i 5 / 4GB memory 高數(shù)據(jù)采集需要大內(nèi)存 | 軟件 | VersaStudio/ VersaStudio Developers Kit(VDK) | 常規(guī) | 電壓 | 750VA Max. Voltage range 90Vac to 250Vac, 50-60Hz | 尺寸(長(zhǎng)X寬X高) | 515 x 490 x 195mm | 重量 | 50lbs, 23kgs | 使用環(huán)境溫度 | 10°C to 50°C | 濕度 | Maximum 80% non-condensing | 理想溫度 | 25°C | Dummy Cell 模擬電解池 | 內(nèi)置 (DC only) | CE 認(rèn)證 | 通過(guò) |
|
20A 電流放大器選項(xiàng) | 型號(hào) | ±20A 大電流選項(xiàng),支持化學(xué)電池、燃料電池及電鍍應(yīng)用,在電流放大及通常操作模式之間轉(zhuǎn)換,僅需簡(jiǎn)單的電纜連接。 | 20A/ PARSTAT4000 | 小電流選件 | 即插即用,小電流選項(xiàng) | VersaSTAT LC | 高級(jí)輔助輸入接口Advanced Auxiliary Interface | 此 AAI 選項(xiàng),允許附加一個(gè)帶有4個(gè)A/D轉(zhuǎn)換輸入接口,使得Versastudio software 通過(guò)VersaSTAT主機(jī)獲得更多記錄數(shù)據(jù)。 | AAI/PARSTAT4000 | 電化學(xué)池選件 | Corrosion Cell Kit 腐蝕電解池 | K0047 | Corrosion Flat Cell 平板電解池 | K0235 | Micro-Cell Kit 微電解池 | K0264 | Analytical Cell Kit 分析電解池 | RDE0018 | Tait Cell 涂層評(píng)價(jià)池 | K0307 | 輔助附件 | 石英晶體微天平 | QCM922 | 旋轉(zhuǎn)盤(pán)電極 | 616 | 旋轉(zhuǎn)環(huán)盤(pán)電極 | 636 |
|
|
全功能電化學(xué)綜合測(cè)試VersaStudio 軟件 Studio軟件支持PARSTAT4000電化學(xué)工作站,包括20A電流放大設(shè)備及小電流選件。各種系統(tǒng)綜合性的軟硬件結(jié)合,使Studio可以致力于各個(gè)領(lǐng)域中的研究,并且通過(guò)不同的預(yù)算不斷升級(jí)。 軟件提供全面、廣泛的電化學(xué)測(cè)試方法,它不但功能強(qiáng)大,而且便于新手學(xué)習(xí)使用。 開(kāi)路電位 | 方波伏安 | 控制電位阻抗 | 線性掃描 | 差分脈沖伏安 | 控制電流阻抗 | 循環(huán)伏安 (單次) | 常規(guī)脈沖伏安 | Loop循環(huán)實(shí)驗(yàn) | 循環(huán)伏安 (多次循環(huán)) | 反相常規(guī)脈沖伏安 | 延時(shí)功能 | 階梯線性掃描 | 零阻計(jì)(電化學(xué)噪聲) | 信息提示功能 | 階梯循環(huán)伏安 (單次) | 電偶腐蝕 | 開(kāi)路電位測(cè)試功能 | 階梯循環(huán)伏安 (多次) | 循環(huán)極化 | 輔助輸入界面 | 計(jì)時(shí)電流 | 線性極化 | 外部應(yīng)用觸發(fā) | 計(jì)時(shí)電位 | Tafel塔菲爾曲線 | DAC 輸出控制 | 計(jì)時(shí)電量 | 恒電位 | 電極表面預(yù)處理 | 快速電位脈沖 | 動(dòng)電位 | 預(yù)沉積 | 快速電量脈沖 | 恒電流 | 系統(tǒng)平衡 | 周期電位脈沖 | 動(dòng)電流 | 系統(tǒng)凈化 | 周期電量脈沖 | 動(dòng)態(tài) iR | iR補(bǔ)償測(cè)量 |
|